森谷 真夕さん（工学専攻 電子物質科学コース／脇谷・坂元・川口研究室）が日本セラミックス協会 第44回電子材料研究討論会 奨励賞を受賞

森谷 真夕さん（工学専攻 電子物質科学コース／脇谷・坂元・川口研究室）が、2024/11/21-22に慶應義塾大学（日吉キャンパス）で開催された 日本セラミックス協会 第44回電子材料研究討論会において、奨励賞を受賞しました。

発表題目: 「フラックス法を用いたLiイオン固体電解質LLZTOエピタキシャル薄膜の作製」

日本セラミックス協会 第44回電子材料研究討論会 HP:
https://www.ceramic.or.jp/bdenshi/activity03/activity03_2024.html

脇谷・坂元・川口研究室 HP:
https://wwp.shizuoka.ac.jp/ceramics/