機械工学科の真田 俊之助教が、NEDO産業技術研究助成事業の一環で、蒸気と水の混合噴流を用いた低環境負荷洗浄技術を開発し、1月29日、プレスリリースを行いました。その内容は複数のメディアでも紹介されました。

プレスリリース記事 http://venturewatch.jp/nedo/20100129nr.html
NIKKEI NET http://release.nikkei.co.jp/detail.cfm?relID=242403&lindID=4
日刊工業新聞ビジネスライン http://www.nikkan.co.jp/newrls/rls0129o-06.html
Tech-On! http://techon.nikkeibp.co.jp/article/NEWS/20100129/179765/

<新聞>
「半導体,蒸気で洗浄  静岡大,100ナノの微粒子除去-」 日経産業新聞 (2010年1月5日)
「静岡大 薬液不要の洗浄技術 ?蒸気と水と混合噴射 電子,医療向け期待?」化学工業新聞 (2010年2月1日)
「水だけで半導体を洗浄 水蒸気の凝縮効果利用 医療,食品分野へ応用も-」中部経済新聞 (2010年2月4日)
「半導体,薬液使わず洗浄 ?水と水蒸気混合噴射-」静岡新聞 (2010年2月4日)
「水蒸気と水で洗浄新技術」 中日新聞 (2010年2月5日)
「薬液不要の洗浄技術を開発 水と水蒸気混合噴射-」半導体産業新聞 (2010年2月12日)
「半導体デバイス製造で薬液を一切使わず洗浄 静岡大 低環境負荷型技術を開発-」 科学新聞 (2010年2月12日)
「水?水蒸気で効率洗浄 ?静大が新技術 化学薬品使わず-」日本経済新聞 (2010年2月17日)

齋藤真田研究室Webページ http://flow.eng.shizuoka.ac.jp/
真田教員Webページ http://www.ipc.shizuoka.ac.jp/~ttsanad/

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