電子物質科学コース修士1年濵田 英志君(鈴木・脇谷・坂元研究室)が、日本セラミックス協会関東支部第32回研究発表会において奨励賞を受賞

工学専攻電子物質科学コース修士1年濵田 英志 君(鈴木 久男・脇谷 尚樹・坂元 尚紀研究室)が、2016年9月20日から21日まで、富士綠の休暇村で開催されました日本セラミックス協会関東支部第32回研究発表会において、奨励賞を受賞しました。

講演題目:
「Si基板上にペロブスカイト構造の酸化物を単層でエピタキシャル成長させる新規バッファー層の開発」

公益社団法人日本セラミックス協会 関東支部HP:
http://www.ceramic.or.jp/skanto/index_j.html

鈴木 久男・脇谷 尚樹・坂元 尚紀研究室HP:
http://www.ipc.shizuoka.ac.jp/~tnsakam/


受賞した表彰状(クリックで拡大します)

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